TEM Mill 作为采用尖端技术制造的精密离子研 磨及抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备 能力，能够为透射电镜制备满足电子束穿透的 大面积薄区样品，同时具备紧凑、精确以及高 稳定性的优点。
离子减薄技术通常采用惰性气体 氩，通过将氩气离子化后，在电场 加速作用下轰击到样品表面，利用 动量转移的方式进行可控速率条件 下，物理溅射轰击的方式对样品进 行减薄，最终实现样品能够达到透 射电镜所需的电子束穿透厚度。
- 两支独立可调电磁聚焦离子枪
同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复)
超宽加速电压范围：100eV到10kV，不同加速电压下，离子束束斑均保持最细最优束斑状态
每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测
采用可调节10英寸触屏控制系统，人机界面友好，操作简洁
自动独立气源控制
减薄角度范围：-15°到 +10°连续可调
样品载台X-Y可调，可根据需要调整样品减薄位置
具备原位实时观察及记录减薄过程功能
样品可360°连续旋转或摇摆，离子束自动避让样 品夹
可通过时间、温度以及透光性自动停止
可选液氮冷台配置，去除热效应对样品的损伤
可选真空或惰性气体转移装置，隔绝样品与水氧接触
| Model 1051 TEM Mill 技术规格 | |
离子源 | 两支TrueFocus电磁聚焦离子源 可变能量范围100 eV到10 keV ，最大束流 密度可达10 mA/cm2 减薄角度 −15° 到 +10˚连续可调 可选择单枪或双枪工作模式 两支离子枪能量可独立调节 可选手动或自动马达离子枪 离子束角度、束斑大小均可调节 |
| 样品夹 | 绝佳的装样设计及导热性能 独特装载设计，能够满足至零度单面/双面 减薄均无阴影 可选带X-Y调节装样样品夹 |
| 样品台 | 样品尺寸: 3 mm 直径 x 250 µm厚度 360˚ 旋转且转速可调，同时样品台可摇摆 磁编码器提供绝对定位精度 |
| 液氮冷台 | 可选液氮冷台设计，冷却时间分为3-5小时 和18小时以上两种 -170℃~室温，具备自动程序化控温设计 |
| 自动终止 | 可根据时间、温度或透光性自动终止减薄 |
| 真空系统 | 80L/s分子泵加多级无油隔膜泵 配有宽量程真空规 |
| 真空转移 | 可选真空转移或惰性气体保护下转移升级 |
| 气源 | 99.999%高纯氩气，使用压力 15 psi 配备精确气体质量流量计 |
| 人机界面 | 10英寸触屏设计，可实现配方编程控制 可选远程灯光指示器 |
| 电源 | 220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W |
| 尺寸/重量 | 68cm(W)X55cm(H)X 54cm(D)，73kg |
