使用徕卡EM TIC 3X进行离子束切割是一项适用于切割硬的，软的，多孔的，热敏感的，脆的和/或 非均质多相复合型材料，获得高质量切割截面，以适宜于扫描电子显微镜（SEM）微区分析（能谱 分析EDS，波谱分析WDS，俄歇分析Auger，背散射电子衍射分析EBSD）和原子力显微镜（AFM） 分析。
徕卡EM TIC 3X在技术上超越了传统的离子束抛光切割设备。它使用三离子束，并可装配冷冻样品 台和三样品台，可以高速率离子束轰击样品，得到宽且深的切割区域，获得一个高质量的平整的 切割截面，几乎适用于任何材料，整个样品处理过程快速简便。
此技术几乎是唯一一个适用于任何材质样品，获得高质量切割截面的解决方法。使用该技术对样品进行处理，样品受到形变或损伤的可能性最低，可暴露出样品内部真实的结构信息。
Leica EM TIC 3X - 设计和操作方面的创新性特点：
1.高通量，提高成本收益
可获得高质量切割截面，区域尺寸可达>4×1mm;
多样品台设计可一次运行容纳三个样品;
离子研磨速率高，Si材料300μm/ h，50μm切割高度，可满足实验室高通量要求 › 可容纳最大样品尺寸为 50×50×10mm;
可使用的样品载台多种多样。
2.简单易用，高精度
可简易准确地完成将样品安装到载台上以及调节与挡板相对位置的校准工作;
通过触摸屏进行简单操控，不需要特别的操作技巧 ;
样品处理过程可实时监控，可以通过体视镜或HD-TV摄像头观察;
LED照明，便于观察样品和位置校准;
内置式，解耦合设计的真空泵系统， 提供一个无振动的观察视野 › 可在制备好的平整的切割截面上可再进行衬度增强作用，即离子束刻蚀处理。 › 通过USB即可进行参数和程序的上传或下载;
几乎适用于任何材质样品 ;
使用冷冻样品台，挡板和样品温度可降至–150°C。
根据应用需求，有三种样品台可选，更换简便：
标准样品台
标准样品台适用于常规样品制备以及对制备 获得的平整截面再做衬度增强作用（离子束 刻蚀）。
三样品台
如需高通量样品制备，可使用三样品台。可以同时放入三个样品，一次运行（如过夜运行） 完成样品制备，不需要操作者介入。
冷冻样品台
冷冻样品台提供低温环境下样品制备。使用冷冻样品台，样品载台和挡板温度都可降至–150°C，这样温度极敏感的样品，如橡胶，水溶性聚合物纤维，甚至是棉花糖（如实验需要）也可被制备获得高质量结果。25L的液氮罐可为一整个工作日提供足够量的LN2，不需要中途再添加。当需要打开样品室，样品及冷冻部件将在真空环境下先自动升温恢复至预设的合适温度，以避免样品室内部结霜污染。
