SEM Mill 作为采用尖端技术制造的离子束切割 抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备能力，能够在最短时间内解决各类扫描电镜制样 困难材料的制样问题，同时具备紧凑、精确以 及高稳定性的优点。
离子抛光技术通常采用惰性气体 氩，通过将氩气离子化后，在电场 加速作用下轰击到样品表面，利用 动量转移的方式进行可控速率条件下，物理溅射轰击的方式对样品表面进行精细抛光处理，满足扫描电 镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求子抛光技术通常采用惰性气体 氩，通过将氩气离子化后，在电场 加速作用下轰击到样品表面，利用动量转移的方式进行可控速率条件 下，物理溅射轰击的方式对样品表 面进行精细抛光处理，满足扫描电镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求。
• 两支独立可调电磁聚焦离子枪
• 同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复)
• 超宽加速电压范围：100eV到10kV，不同加速电压下， 离子束束斑均保持最细最优束斑状态
• 每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测
• 采用可调节10英寸触屏控制系统，人机界面友好，操作 简洁
• 配备横截面切割装载及定位工具
• 配备磁编码器，带有样品测厚功能，自动匹配最佳抛 光位置，保证最佳的抛光质量和效率
• 抛光角度范围：0°到 +10°连续可调
• 具备原位实时观察及记录抛光过程功能
• 样品可360°连续旋转或摇摆，离子束自动避让样品夹
• 可通过时间或温度自动停止
• 可选液氮冷台配置，去除热效应对样品的损伤
• 可选真空或惰性气体转移装置，隔绝样品与水氧接触
| Model 1061 SEM Mill 技术规格 | |
| 离子源 | 两支TrueFocus电磁聚焦离子源 可变能量范围100 eV到10 keV ，最大束流 密度可达10 mA/cm2 抛光角度 0° 到 +10˚连续可调可 选择单枪或双枪工作模式 两支离子枪能量可独立调节 可选手动或自动马达离子枪 离子束束斑大小300μm —5mm连续可调 |
| 样品台 | 样品尺寸: 横截面切割：Max 25x10x7mm 平面抛光：32mm直径 x 25mm 高 360˚ 旋转且转速可调，同时样品台可摇摆 磁编码器提供绝对定位精度 |
| 液氮冷台 | 可选液氮冷台升级，冷却时间分为3-5小时 和18小时以上两种 最低温度<-170℃~室温，具备自动程序化控温设计 |
| 抛光速率 | 500μm/Hr(Si@10keV) |
| 真空系统 | 80L/s分子泵加多级无油隔膜泵 配有宽量程规，无需清洁 |
| 真空转移 | 可选真空转移或惰性气体保护下转移升级 |
| 气源 | 99.999%高纯氩气，使用压力 15 psi 配备精确气体质量流量计 |
| 人机界面 | 10英寸触屏设计，可实现配方编程控制 可选远程灯光指示器 |
| 电源 | 220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W |
| 尺寸/重量 | 68cm(W)X55cm(H)X 54cm(D)，73kg |
