SEM Mill离子束切割抛光系统
型号:1061
品牌:FISCHIONE
可靠、高性能的样品制备能力

SEM Mill 作为采用尖端技术制造的离子束切割 抛光系统,提供可靠、高性能的样品制备能力,能够在最短时间内解决各类扫描电镜制样 困难材料的制样问题,同时具备紧凑、精确以 及高稳定性的优点。

技术简介

离子抛光技术通常采用惰性气体 氩,通过将氩气离子化后,在电场 加速作用下轰击到样品表面,利用 动量转移的方式进行可控速率条件下,物理溅射轰击的方式对样品表面进行精细抛光处理,满足扫描电 镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求子抛光技术通常采用惰性气体 氩,通过将氩气离子化后,在电场 加速作用下轰击到样品表面,利用动量转移的方式进行可控速率条件 下,物理溅射轰击的方式对样品表 面进行精细抛光处理,满足扫描电镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求。

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产品特点

• 两支独立可调电磁聚焦离子枪 

• 同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复) 

• 超宽加速电压范围:100eV到10kV,不同加速电压下, 离子束束斑均保持最细最优束斑状态 

• 每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测 

• 采用可调节10英寸触屏控制系统,人机界面友好,操作 简洁 

• 配备横截面切割装载及定位工具 

• 配备磁编码器,带有样品测厚功能,自动匹配最佳抛 光位置,保证最佳的抛光质量和效率 

• 抛光角度范围:0°到 +10°连续可调 

• 具备原位实时观察及记录抛光过程功能 

• 样品可360°连续旋转或摇摆,离子束自动避让样品夹 

• 可通过时间或温度自动停止 

• 可选液氮冷台配置,去除热效应对样品的损伤 

• 可选真空或惰性气体转移装置,隔绝样品与水氧接触

技术规格
Model 1061 SEM Mill 技术规格
离子源

两支TrueFocus电磁聚焦离子源

可变能量范围100 eV到10 keV ,最大束

密度可达10 mA/cm2 

抛光角度 0° 到 +10˚连续可调可 

选择单枪或双枪工作模式 

两支离子枪能量可独立调节 

可选手动或自动马达离子枪 

离子束束斑大小300μm —5mm连续可调

样品台

样品尺寸: 

横截面切割:Max 25x10x7mm

平面抛光:32mm直径 x 25mm 高

360˚ 旋转且转速可调,同时样品台可摇摆 

磁编码器提供绝对定位精度

液氮冷台

可选液氮冷台升级,冷却时间分为3-5小时 和18小时以上两种 

最低温度<-170℃~室温,具备自动程序化控温设计

抛光速率500μm/Hr(Si@10keV)
真空系统

80L/s分子泵加多级无油隔膜泵

配有宽量程规,无需清洁

真空转移可选真空转移或惰性气体保护下转移升级
气源

99.999%高纯氩气,使用压力 15 psi

配备精确气体质量流量计

人机界面

10英寸触屏设计,可实现配方编程控制

可选远程灯光指示器

电源220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W
尺寸/重量68cm(W)X55cm(H)X 54cm(D),73kg


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