氩离子抛光仪llionII

氩离子抛光仪 Ilion II

型号：697

品牌：GATAN

专利WhisperLok 系统: 无需破坏主腔室真空，样品交换时间小于1分钟。

氩离子抛光仪Ilion™ II 是一款桌面型设备，用于制备截面样品，同时利用宽束氩离子对样品进行平面抛光，以便样品在 SEM及其它设备上进行检测分析。 Ilion II可对不同种类的材料进行抛光，包括复合材料，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金。 Ilion II 配有 Gatan 专利的 WhisperLok®样品交换系统，可选配可控温液氮冷却台。

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性能优势

专利WhisperLok 系统: 无需破坏主腔室真空，样品交换时间小于1 分钟。
低能聚焦潘宁离子枪:降低表面损伤，改善 EBSD 及 CL 等低能抛光技术下的实验成果。
能量从0.1 到 8.0 kV 可调: 低能区减少非晶层，高能区大幅提高制样速度。
液氮冷台：消除热效应所产生的样品损伤。
10 英寸彩色触摸屏控制: 通过图形用户界面 (GUI) ，快速简便地访问所有的控制参数。
数码变焦显微镜:实时观察抛光过程。
DigitalMicrograph 软件彩照存储: 能够将存储的光学图像以相同的格式与 SEM 数据一起使用。

技术规格

Ilion II 系统
离子源
离子枪		两个配有稀土磁铁的潘宁离子枪
抛光角度 (°)		+10 到-10°，每支离子枪可独立调节
离子束能量 (kV)		0.1 – 8.0
离子束流密度(A/cm2)		10
抛光速率 (µm/h) 8.0 kV 条件下		300（对于硅试样）
离子束直径		可用气体流量计或放电电压来调节
离子束直径		可用气流控制器或放电电压来调节立调节
样品台		真空系统
样品大小(长 x 宽 x 高, mm)		10 x 10 x 4
样品装载		Ilion 专利的样品挡板
转速 (rpm)		0.5 – 6.0
束流调制		角度范围可调的单束调制或双束调制，
样品观察		或者不调制
真空系统
干泵系统		两级隔膜泵支持 80 升/秒的涡轮分子泵
压力 (torr)
基本压		5 x 10-6
工作压		8 x 10-5
真空规		冷阴极型，用于主样品室；固体型，用前级机械泵
样品气锁		WhisperLok专利技术，样品交换时间小于1 分钟
用户界面
10 英寸彩色触摸屏		操作简单，且能够完全控制所有参数和配方式操作
尺寸及使用要求
外形尺寸 (L x W x H, mm)		575 x 495 x 615
运输重量(kg)		45
功耗 (W)
运行中		200
待机中		100
电源要求		通用 100 – 240 VAC，50/60 Hz（用户指定电压和频率）
氩气(psi)		25